Современная фотолитография

Учебно-методический материал по программе повышения квалификации «Новые материалы электроники и оптоэлектроники для информационно-телекоммуникационных систем». - Нижний Новгород, ННГУ, 2006. - 56 с.В учебно-методологических материалах представлен аналитический обзор современного состояния фотолитографической науки. Изложены физико-химические механизмы формирования фоторезистных масок. Особое внимание уделяется современным способам фотолитографии, в которых первоначально изображение формируется в тонком поверхностном слое, а затем переносится в резистные слои при помощи реактивного ионного травления. Анализируются границы применимости методов фотолитографии с использованием конкретных фоторезистов. Анализируются химические основы подбора материала фоторезистов для современных фоторезистных систем.